自2022年5月5日起，申请人可以通过两种方式在中国请求工业品外观设计的专利保护：1）直接向国知局提交国家外观设计申请；2）根据海牙协定向国际局提出外观设计国际注册申请并指定中国。上述两种方式在申请流程、申请文件的准备、审查流程、相关费用的缴纳以及其他方面均存在显著差异。那么，两者在申请文件审查范围方面（本文仅考虑对外观设计图片或照片以及外观设计简要说明的初步审查，不涉及与专利申请有关的其他手续、文件、时限、费用等），是否完全相同或者存在哪些差异呢？结合专利审查指南的相关规定以及实操经验，相应的异同点请参考以下表格：

具体参见如下内容：

图片或照片的审查

针对国家外观设计申请，审查指南提供了关于视图清楚表达、视图名称及标注、图片绘制要求、照片拍摄技巧以及图片或照片的明显缺陷等方面的明确指导原则。这些规定确保国家外观设计申请的图片或照片可以准确和清楚的呈现。

而对于外观设计国际申请，申请文件的形式或内容应当适用海牙协定以及1999年文本和1960年文本共同实施细则的规定，而国知局不得以申请文件的形式缺陷为由驳回外观设计国际申请。在国家审查阶段，审查员重点审查申请人提交的图片或者照片是否存在影响要求保护的产品整体或者局部外观设计清楚表达的明显实质性缺陷。

在中国，对于外观设计申请的图片或照片的审查与其他国家的审查可能存在显著差异。因此，建议申请人在申请阶段提交足够且清楚的视图，以避免因缺少必要视图而无法清楚表达请求保护的设计，从而增加驳回风险。如果收到审查意见通知书，申请人可以考虑委托专利代理机构与审查员进行沟通，探讨可能的修改方案，在可能的情况下对视图进行修改，以最大程度地保护申请人的权益。

简要说明的审查

针对国家外观设计申请，审查指南中对于简要说明的内容有明确规定，这些规定详细指出了在简要说明中应当包含的信息，以及严禁包含的内容。这一要求确保了申请文件的清晰性和合规性。

而对于外观设计国际申请，审查则更加灵活。一般审查员会综合考虑简要说明的内容和产品名称，只要能够清楚理解申请保护的整体或局部外观设计，即认为申请符合要求。例如，在国家外观设计申请中，对简要说明中所记载的局部外观设计的名称做出详细规定，规定如下：申请局部外观设计专利的，应当在产品名称中写明要求保护的局部及其所在的整体产品。局部的名称应准确地指明要求保护的局部，且与视图表达一致。可以以“整体产品+局部称谓”、“整体产品+局部所在的位置”、“整体产品+‘的主体’”的形式进行命名。而在外观设计国际申请中，根据笔者的实践，对于涉及局部外观设计的，一般仅写明“Part of 整体产品”即可。

在此提醒申请人注意，对于外观设计国际申请，指定中国的外观设计国际申请必须包含描述申请人要求保护的外观设计特征的简要说明，其中外观设计特征是指设计要点。中国专利审查指南规定：设计要点是指与现有设计相区别的产品的形状、图案及其结合，或者色彩与形状、图案的结合，设计要点也可以是产品的某一部位。如果请求保护色彩，也应当在简要说明中予以说明。在实践操作中，这一点非常容易被申请人忽视，从而导致国家知识产权局下发相关的通知书“NOTIFICATION OF REFUSAL (TO WIPO)”，最终造成审查周期的延长并产生不必要的费用。

其他明显实质性缺陷的审查

在其他明显实质性缺陷的审查方面，两者所依据的法条基本相同，这就意味着外观设计国际申请和国家外观设计申请均需要经相同的明显实质性缺陷审查才能在中国获得专利保护。审查范围主要集中于是否存在或违反以下条款的缺陷：专利法第五条第一款违反法律、社会公德或者妨害公共利益，专利法第二条第四款外观设计的定义，第三十一条第二款单一性，第三十三条修改超范围，专利法第九条重复授权，第二十三条第一款、第二款新颖性和明显区别。

基于实操经验，笔者注意到，由于不具有专利法第二十三条第一款、第二款规定的新颖性和明显区别，而引发的驳回通知较为常见。在此，分享一些国家知识产权局对不具有新颖性和明显区别方面的审查要点以及相应的应对策略，希望能为申请人提供一些帮助。

根据国知局的规定，授予专利权的外观设计，不应属于现有设计；也没有任何单位或者个人就同样的外观设计在申请日以前向国务院专利行政部门提出过申请，并记载在申请日以后公告的专利文件中。在2023年修改的审查指南中新增了对于外观申请明显区别方面的审查，即授予专利权的外观设计与现有设计或者现有设计特征的组合相比，应当具有明显区别。

笔者建议申请人在设计完成时，应及时考虑提交外观设计申请，避免申请前可能的公开使用以及其他方式而为公众所知；可以通过签署保密协议、加强内部信息安全管理等方式防止设计被提前泄露；充分利用优先权期限进行多国外观专利布局。在收到相应的审查意见通知书时，申请人应仔细阅读并理解审查意见，对申请保护的设计和对比设计进行整体观察、综合判断，清楚、明确地陈述两者的区别，考虑现有设计的设计空间，结合发明人的设计初衷以及构思等方面进行争辩。